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硅(Si)靶材

  • 產品資料
  • 技術參數

硅旋轉靶采用等離子噴涂或者燒結綁定工藝,可生產最大長度4000mm,厚度根據客戶要求定制。
硅平面靶采用拉晶生長工藝,可生產最大長度600mm,最大寬度400mm,尺寸可根據客戶要求加工。

純度:99.9-99.999%
應用領域:薄膜太陽能工業,低輻射玻璃工業,平板顯示工業,光學鍍膜工業,半導體工業,工具及裝飾鍍膜工業。

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